CO2 লেজার মার্কিং মেশিন এমন একটি মেশিন যা স্থায়ীভাবে বিভিন্ন পদার্থের বিভিন্ন পৃষ্ঠকে চিহ্নিত করতে লেজার রশ্মি ব্যবহার করে। চিহ্নিতকরণের প্রভাব হল পৃষ্ঠের পদার্থের বাষ্পীভবনের মাধ্যমে গভীর পদার্থকে প্রকাশ করা, যার ফলে চমৎকার নিদর্শন, ট্রেডমার্ক, তারিখ, লোগো বা পাঠ্য খোদাই করা হয়। বর্তমানে, CO2 লেজার মার্কিং মেশিনগুলি প্রধানত এমন পরিস্থিতিতে ব্যবহৃত হয় যেগুলির জন্য আরও নির্ভুলতা এবং নির্ভুলতা প্রয়োজন। খাদ্য, ওষুধ, অ্যালকোহল, ইলেকট্রনিক উপাদান, ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট (আইসি), বৈদ্যুতিক যন্ত্রপাতি, মোবাইল যোগাযোগ, বিল্ডিং উপকরণ, পিভিসি পাইপ ইত্যাদির মতো শিল্পে প্রয়োগ করা হয়, CO2 লেজার মার্কিং মেশিন এবং ইঙ্কজেট প্রিন্টারের প্রধান সুবিধার অভাব। ভোগ্যপণ্য এবং স্থায়ীত্ব।
লেজার মার্কিং হল বিভিন্ন পদার্থের পৃষ্ঠকে স্থায়ীভাবে চিহ্নিত করার জন্য একটি লেজার রশ্মির ব্যবহার। চিহ্নিতকরণের প্রভাব হল ভূপৃষ্ঠের পদার্থের বাষ্পীভবনের মাধ্যমে গভীরতর পদার্থগুলিকে প্রকাশ করা, অথবা আলোক শক্তির দ্বারা সৃষ্ট রাসায়নিক ও শারীরিক পরিবর্তনের মাধ্যমে ভূপৃষ্ঠের পদার্থের চিহ্নগুলিকে "খোদাই" করা, অথবা পছন্দসই খোদাই করা নিদর্শনগুলি প্রদর্শনের জন্য হালকা শক্তির মাধ্যমে কিছু পদার্থকে পুড়িয়ে ফেলা। এবং পাঠ্য।
দুটি স্বীকৃত নীতি আছে:
তাপ প্রক্রিয়াকরণ হল উচ্চ শক্তির ঘনত্ব (যা একটি ঘনীভূত শক্তি প্রবাহ) সহ একটি লেজার রশ্মি যা প্রক্রিয়াকৃত উপাদানের পৃষ্ঠে বিকিরণ করা হয়। উপাদান পৃষ্ঠ লেজার শক্তি শোষণ করে এবং বিকিরণ এলাকায় একটি তাপ উত্তেজনা প্রক্রিয়া তৈরি করে, যার ফলে উপাদান পৃষ্ঠের তাপমাত্রা (বা আবরণ) বৃদ্ধি পায়, যার ফলে বিকৃতি, গলে যাওয়া, বিমোচন এবং বাষ্পীভবনের মতো ঘটনা ঘটে।
কোল্ড প্রক্রিয়াকরণে উচ্চ শক্তির লোড (আল্ট্রাভায়োলেট) সহ ফোটন জড়িত থাকে, যা পদার্থ (বিশেষত জৈব পদার্থ) বা পার্শ্ববর্তী মিডিয়াতে রাসায়নিক বন্ধন ভেঙ্গে দিতে পারে, যা উপাদানের অ-তাপীয় প্রক্রিয়ার ক্ষতি করে। লেজার মার্কিং প্রসেসিংয়ে এই ধরনের কোল্ড প্রসেসিং বিশেষ গুরুত্ব বহন করে কারণ এটি থার্মাল অ্যাবলেশন নয়, বরং একটি কোল্ড পিলিং যা "থার্মাল ড্যামেজ" এর পার্শ্বপ্রতিক্রিয়া তৈরি করে না এবং রাসায়নিক বন্ধন ভেঙে দেয়। অতএব, এটি অভ্যন্তরীণ স্তর এবং প্রক্রিয়াকৃত পৃষ্ঠের নিকটবর্তী অঞ্চলে গরম বা তাপীয় বিকৃতি তৈরি করে না। উদাহরণস্বরূপ, ইলেকট্রনিক্স শিল্পে, এক্সাইমার লেজারগুলি সাবস্ট্রেট উপকরণগুলিতে রাসায়নিক পাতলা ফিল্ম জমা করতে এবং সেমিকন্ডাক্টর সাবস্ট্রেটগুলিতে সরু খাঁজ তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।